Функції продукту
Точні гравіруючі покриття компанії Gatan (PECS) ™) II - це настільне обладнання для широкого пучка аргонного полірування та покриття. Для того ж зразка полірування та покриття можуть бути виконані в тому ж вакуумному середовищі.

Основні технічні характеристики продукту:
Точні гравіруючі покриття (PECS) ™) II， Використовуючи два широких пучка аргонових іонних пучків для полірування поверхні зразка, видалення втрати шару, таким чином, отримати високоякісний зразок для зображення на SEM, оптико або сканування електронних зондів, EDS, EBSD, CL, EBIC або іншого аналізу, а також ці два іонні пістолети орієнтовані на ціль розпилювання, які можуть бути використані для обробки осадження провідної металевої мембрани зразка, щоб запобігти ефекту заряду зразка в електроскопі.
Цей інструмент призначений для обробки полірованих зразків без порушення вакууму і без впливу свіжої поверхні зразка на атмосферу. Вигрузка зразків здійснюється за допомогою спеціально розробленого інструменту для збору зразків у вакуумному обмінному кабіні.
Два невеликі іонні пістолети Penning з більшим діапазоном напруги забезпечують швидкий м'який поліруючий ефект. Іонні пучки до 100 eV забезпечують більш м'який ефект полірування для полірування зразків. Низькоенергетичний фокусний електрод дозволяє зберігати діаметр іонного пучка постійним майже по всьому діапазону напруги прискорення. Кожна іонна пістолета може бути точно і незалежно прицілена. Під час роботи інструменту кут іонної пістолети може бути регульований. Потік повітря з іонного пистолету може бути регульований вручну або автоматично на сенсорному екрані для оптимізації робочого струму іонного пистолету.
Збірковий стіл PECS II використовує метод охолодження рідким азотом. Можна ефективно захистити зразок, уникнути пошкодження від тепла іонного променя, усунути можливі ілюзії.
Інтегрований 10-дюймовий кольоровий сенсорний комп'ютер надає повний контроль над усіма параметрами роботи системи PECS II. Цей інтерфейс дозволяє налаштувати всі параметри та контролювати процес полірування. Всі операційні параметри також можуть бути збережені як стандарти, а виклик стандарту дозволяє отримати високу точність повторення експериментів.
Турбомолекулярний насос з двоступеневим мембранним насосом забезпечує надзвичайно чисте середовище. Швидкий обмін зразками (< 1 хвилина) забезпечується інструментами для завантаження зразків Gatan, що забезпечує завжди високий вакуум в кабіні обробки під час обміну зразків.

Підпис зображення: (А) секундарний електронний образ поверхні зразка, полірованого PECSII, показуючи висококристальні зерна (Б) Зурак Кізакі з полірованого циркону сплаву PECSII (С) Еулерова диаграма EBSD (D) IPFZ, що бореться з поверхнею. Фотографія надана професором Ангусом Уілкіном-соном, Оксфордським університетом в школі матеріалів, і доктором Гамідрезою Абдолвандом. Дані були зібрані на сканувальному електроскопі Zeiss Merlin Compact з системою BrukerQuantax EBSD.