Особливості продукту:
1, корпус машини використовує холодновалковану пластину для фарбування, внутрішній жовт виготовлений з нержавіючої сталі 316L; Нагрівач розподіляється рівномірно навколо внутрішньої і зовнішньої стінки жовті, без електричних аксесуарів і запалюючих вибухових пристроїв. Засталені, куленепроникні подвійні скляні двері спостерігають за об'єктами в студії з одного погляду.
2, закриття дверей коробки вільно регулюється, цілісне формування силіконового гумового герметичного кольця для забезпечення високого вакууму в коробці.
3, мікрокомп'ютерний інтелектуальний термометр, з налаштуванням, вимірюванням температури подвійний цифровий дисплей і PID саморегулювання функції, точний і надійний контроль температури.
Інтеллектуальна система управління сенсорним екраном, що підтримує японський модуль Mitsubishi PLC, дозволяє користувачам змінювати програму, температуру, вакуум та час кожної програми відповідно до різних умов обробки.
5, HMDS газ закритий тип автоматичного всмоктування додати конструкцію, вакуумна коробка герметичні продуктивність, щоб забезпечити, що газ HMDS не викликає зовнішніх проблем.
Вся система виготовляється з матеріалу, без пилу, для очищення середовища між 100 рівнями світла.

Вибір аксесуарів:
Вакуумні насоси: німецька марка, двополярні масляні насоси Leipzig "DC", високий межний вакуум, низький шум, стабільна робота.
Труба з'єднання: хвильова труба з нержавіючої сталі, повністю герметична, яка з'єднує вакуумний насос з піччю.

Необхідність системи попередньої обробки HMDS:
У процесі виробництва напівпровідників літографія є важливою частиною процесу передачі графіки інтегрованої схеми, якість наклеювання безпосередньо впливає на якість літографії, процес наклеювання також є особливо важливим. Переважна більшість фотографічного клею в процесі покриття є гідрофобними, а гідроксильні та залишкові молекули води на поверхні кремнієвої плівки є гідрофільними, що призводить до поганої клею фотографічного клею та кремнієвої плівки, особливо позитивного клею, коли відображення рідина проникне в з'єднання фотографічного клею та кремнієвої плівки, легко викликає дрифт, плаваючий клей тощо, що призводить до невдачі передачі графіки фотографічно Додатковий засіб HMDS (гексаметилдисиликанан) може добре поліпшити цей стан. Після нанесення HMDS на поверхню кремнієвої плитки, нагрівання в печі може отримувати сполуки в основному на основі силіксану. Він успішно перетворює поверхню кремнію з гідрофільного в гідрофобну, його гідрофобна основа може добре поєднатися з фотографічною клеєю, яка грає роль сполучення.

Принцип вакуумної печі HMDS:
Система попередньої обробки HMDS за допомогою робочої температури процесу попередньої обробки печі HMDS, часу обробки, часу зберігання під час обробки та інших параметрів може рівномірно покрити шар HMDS на кремнієвому пластині, поверхні підложки, зменшити кут контакту кремнієвої пластини після обробки HMDS, зменшити кількість фотограбування клею, поліпшити клею фотограбування та клею кремнієвої

Загальний процес роботи вакуумної печі HMDS:
Спочатку визначте робочу температуру печі. Типовою процедурою попередньої обробки є: відкриття вакуумного насосу для помпу вакууму, очікуючи, що рівень вакууму в порожнині досягне певного високого вакууму, почати наповнювати азот, наповнювати, щоб досягти певного низького вакууму, знову провести процес помпу вакууму, наповнювати азот, після досягнення встановленої кількості наповнювань азоту, почати тримати деякий час, щоб кремнієві плитки повністю нагріти, зменшити вологість поверхн Потім знову починати помпувати вакуум, наповнювати газ HMDS, після досягнення встановленого часу припинити наповнювати рідину HMDS, перейти до фази утримання, щоб кремнієві таблетки повністю реагували на HMDS. Після досягнення встановленого часу зберігання знову починайте помпати вакуум. Надавайте азот, щоб завершити весь робочий процес. Механізм реакції HMDS з кремнієвою плиткою такий: спочатку нагрівати до 100 ° C-200 ° C, видалити вологу поверхні кремнієвої плитки, а потім HMDS реагує з поверхнею OH, створюючи кремнієвий ефір на поверхні кремнієвої плитки, усунувши водневу зв'язку, таким чином, полярна поверхня перетворюється на неполярну поверхню. Вся реакція продовжується до тих пір, поки просторовий біт-резистент (триметилсилікан великий) не дозволяє їй подальшої реакції.

Викиди вихлопних газів тощо: надлишкові пари HMDS (вихлопні гази) будуть викачені вакуумним насосом і викидані в спеціальний трубопровід для збору вихлопних газів. Спеціальна обробка необхідна, якщо немає спеціальних труб для збору вихлопних газів.

Корпус холодновалкована фарба